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光學(xué)膜厚儀OMD-1000的運(yùn)用范圍

發(fā)布時(shí)間:2021-05-25 點(diǎn)擊量:1203

光學(xué)膜厚儀OMD-1000的運(yùn)用范圍

典型應(yīng)用領(lǐng)域

半導(dǎo)體制造業(yè),光刻膠、氧化物、硅或其他半導(dǎo)體膜層的厚度測量。

生物醫(yī)學(xué)原件:聚合物/聚對二甲苯;生物膜/球囊壁厚度;植入藥物涂層。

微電子:光刻膠;硅膜;氮化鋁/氧化鋅薄膜濾鏡                       

液晶顯示器:盒厚;聚酰亞胺;導(dǎo)電透明膜

由于是光學(xué)測量,在測量時(shí)候無須擔(dān)心破壞樣品,讓用戶簡單快速地測量薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù),通過對待測膜層的上下界面間反射光譜的分析,幾秒鐘內(nèi)就可測量結(jié)果。

 

這是一種光譜膜厚監(jiān)測儀,可監(jiān)測在氣相沉積過程中用單色光在基板上產(chǎn)生的光量變化。它也用在我們自己的薄膜沉積設(shè)備中,并作為膜厚監(jiān)測設(shè)備完成,該設(shè)備具有氣相沉積零件制造商的專業(yè)知識(shí)。

全波長范圍

在傳統(tǒng)型號中,波長選擇是濾光片類型,但是新產(chǎn)品采用了我們公司具有良好記錄的分光鏡,現(xiàn)在可以選擇任何波長。
膜厚變化的信號是從電壓輸出到與個(gè)人計(jì)算機(jī)兼容的數(shù)字輸出,控制機(jī)構(gòu)是從手動(dòng)操作到個(gè)人計(jì)算機(jī)的命令控制。另外,通過將薄膜厚度計(jì)主體通過I / F直接連接到個(gè)人計(jì)算機(jī)來控制其厚度成為可能,這是一個(gè)非常緊湊的系統(tǒng),無需像其他制造商那樣的控制器。

特征

  • 分光鏡設(shè)計(jì)緊湊
  • 通過提高抗噪聲性(靜電放電測試耐電壓±5 kV)實(shí)現(xiàn)高度可靠的膜厚監(jiān)控
  • 可以通過PC上的命令自動(dòng)控制
  • 通過將控制器整合到接收器主體中來實(shí)現(xiàn)高性價(jià)比

產(chǎn)品規(guī)格

模型OMD-1000
光譜儀類型切爾尼·特納(Czerny Turner)類型單單色
波長范圍保證范圍:380至900 nm可操作
范圍:350至1100 nm
波長分辨率狹縫0.5mm:4.2nm [546nm]
狹縫1.0mm:8.3nm [546nm]
波長精度±1.0納米
最小波長進(jìn)給0.1納米
外部控制RS232C
外部輸出端子DC0-2V(滿量程)
采樣間隔100ms以上
靜電放電試驗(yàn)?zāi)碗妷?/font>±5kV(實(shí)際8kV)
光源12V100W鹵素?zé)?/font>
光強(qiáng)度穩(wěn)定性±0.1%/ h以下
輸入電壓AC100V 50/60赫茲
允許輸入電壓AC85-132V
視在功率340VA以下
使用環(huán)境溫度10-35℃
濕度20-80%

 

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